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痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion專為痕量和超痕量元素分析定制，滿足嚴(yán)苛的用水要求。Genie De-ion 是樂(lè)楓專門(mén)設(shè)計(jì)，與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統(tǒng)配合使用的純化、取水終端，提供超低元素水平的分析級(jí)超純水，離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平，使用者可通過(guò)Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開(kāi)關(guān)控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合
更新時(shí)間：2025-05-26
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痕量和超痕量分析在科研、工業(yè)和檢測(cè)等各個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用，這些*靈敏度的分析技術(shù)對(duì)分析過(guò)程中的污染風(fēng)險(xiǎn)零容忍。純水在其中，參與清洗部件、冷卻、標(biāo)準(zhǔn)曲線繪制、樣品制備等諸多環(huán)節(jié)。水的純度，必須滿足嚴(yán)苛的要求。
痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion是樂(lè)楓專門(mén)設(shè)計(jì)，與Genie G 或Genie PURIST 智能超純水系統(tǒng)配合使用的純化、取水終端，提供超低元素水平的分析級(jí)超純水，離子含量低至ppt 甚至亞ppt 水平，使用者可通過(guò)Genie 主控屏、終端觸摸屏或腳踏開(kāi)關(guān)控制取水。Genie De-ion 適用于電感耦合等離子體質(zhì)譜（ICP-MS）、石墨爐原子吸收（GF-AAS）等各種痕量/ 超痕量元素分析技術(shù)。
痕量分析用純化取水終端 Genie De-ion優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)：
● 裝有 ICP 型超純化柱，對(duì)超純水進(jìn)行深度純化進(jìn)一步去除痕量離子，持續(xù)提供ppt 或亞ppt 離子水平的超純水。
· 優(yōu)化水路設(shè)計(jì)，提高過(guò)水量，水質(zhì)穩(wěn)定。
· 柱體耐壓強(qiáng)，接口雙重密封，漏水風(fēng)險(xiǎn)低。
· 帶智能識(shí)別碼（RFID），智能化管理，工作狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控，隨時(shí)追溯水質(zhì)歷史數(shù)據(jù)、使用參數(shù)等。
· 安裝更換簡(jiǎn)單，可以單手操作。
● 終端自帶彩色觸摸屏
· 2.4 英寸，實(shí)時(shí)顯示水質(zhì)/ 流速等常用信息。
· 可戴手套和帶水操作。
· 設(shè)置手動(dòng)或定量取水，調(diào)節(jié)流速。
● 布局靈活，安裝便利，節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間
典型應(yīng)用 · ICP-MS 分析 · 石墨爐原子吸收光譜分析 · 痕量和超痕量元素分析 · 關(guān)鍵儀器清洗等 | 應(yīng)用領(lǐng)域/ 行業(yè) · 電子、芯片、半導(dǎo)體 · 食品、農(nóng)業(yè)、藥品、醫(yī)學(xué) · 環(huán)保、地質(zhì) · 核工業(yè)、能源、法醫(yī)、 · 化學(xué)化工等 |
性能指標(biāo)
超純水技術(shù)指標(biāo) | |
取水流速 | 0 - 1.5 L/min |
電阻率 ( ＠ 25℃ ) | 18.2 MΩ·cm |
TOC | < 5 ppb |
尺寸及重量 | |
寬 × 深 ×高 | 21 cm × 29 cm × 53 cm |
重量 | 21 kg |
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